К содержанию
РецензированоEN2021

INFLUENCE OF IMPURITY NI AND CU ATOMS ON THE ELECTROPHYSICAL PROPERTIES OF SI

PROPERTIES OF SI

American Journal Of Applied Science And Technology · 03 · 2021

Аннотация

The paper presents the results of studies of the electrophysical properties of Si, doped Ni and Cu samples. It is revealed that a decrease in the mobility of charge carriers in the temperature range of 120÷320 K is of particular importance in increasing the resistivity of samples. KEYWORDS Silicon, nickel, copper, impurity, diffusion, electrophysical properties, resistivity, concentration, mobility, Hall effect.

Доказательный фрагмент

«The paper presents the results of studies of the electrophysical properties of Si, doped Ni and Cu samples.»

Образец извлечения

Демо-превью

The paper presents the results of studies of the electrophysical properties of Si, doped Ni and Cu samples. Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

Цитирований
0
Тип
Журнал
Страна
Узбекистан
Ключевые слова
Silicon, nickel, copper, impurity, diffusion, electrophysical properties, resistivity, concentration, mobility, Hall effect
Открыть DOI
Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники