ЭЛЕКТРОННАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ ПОВЕРХНОСТЕЙ ГЕТЕРОСИСТЕМ SI/CU С НАНОРАЗМЕРНЫМИ ФАЗАМИ И ПЛЕНКАМИ

Аннотация

In this article, valence electron state density, energy band parameters, energetic, optical and electrophysical properties of metal oxide and silicide films with thickness ≤ 40 Å formed on Si/Cu surface during ion implantation and annealing were studied. Key words: thermal oxidation, nanophases, nanofilms, plasma oscillation, surface roughness, optical-phonon mode, island growth. ЭЛЕКТРОННАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ ПОВЕРХНОСТЕЙ ГЕТЕРОСИСТЕМ SI/CU С НАНОРАЗМЕРНЫМИ ФАЗАМИ И ПЛЕНКАМИ Аннотация. В статье исследованы плотность состояний валентных электронов, параметры энергетических зон, энергетические, оптические и электрофизические свойства пленок оксидов металлов и силицидов толщиной ≤ 40 Å, образующихся на поверхности Si/Cu в процессе ионной имплантации и отжига. Ключевые слова: термическое окисление, нанофазы, нанопленки, плазменные колебания, шероховатость поверхности, оптико-фононный режим, рост островков.