Особенности структуры нанокристаллических пленок никеля, сформированных методом ионного распыления

Аннотация

Тонкие нанокристаллические пленки Ni с толщиной ~ 340—360 nm были синтезированы методом ионного распыления на подложках из монокристаллического Si (111) в условиях высокого вакуума. Методами рентгеновской дифракции, сканирующей электронной микроскопии с микроанализом, вибрационной магнитометрии и дифференциальным термомагнитным анализом исследованы структура, магнитно-фазовый состав и магнитные свойства исходных и подвергнутых термическому отжигу пленок Ni.