К содержанию
РецензированоRU2020

Плавление и электромиграция в тонких пленках хрома

М. Sharma · P. Kumar и др

Научные статьи · 2020

Аннотация

Пленки хрома толщиной 10 -40 nm, нанесенные на кремниевые подложки при помощи магнетронного осаждения, были подвергнуты воздействию электрического тока, индуцированного зондом атомно-силового микроскопа (ACM) в воздушной среде при нормальных условиях. Плавление на наноуровне, миграция материала, вызванная электрическим током и химическая реакция окисления хрома были исследованы с помощью оптической и сканирующей электронной микроскопии (СЭМ), атомной силовой микроскопии (ACM) и спектроскопии комбинационного рассеяния света в кратерах плавления около области воздействия.

Доказательный фрагмент

«Пленки хрома толщиной 10 -40 nm, нанесенные на кремниевые подложки при помощи магнетронного осаждения, были подвергнуты воздействию электрического тока, индуцированного зондом атомно-силового микроскопа (ACM) в воздуш…»

Образец извлечения

Демо-превью

Пленки хрома толщиной 10 -40 nm, нанесенные на кремниевые подложки при помощи магнетронного осаждения, были подвергнуты воздействию электрического тока, индуцированного зондом атомно-силового микроскопа (ACM) в воздуш… Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

DOI не указан
Цитирований
0
Тип
Журнал
Страна
Узбекистан
Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники