К содержанию
CiteXCiteX — научный поиск с источниками
РецензированоRU2017

Влияние отжига на удельное сопротивление ito пленок, выращенных cvd методом

Атабаев И.Г. · Хажиев М.У. · Закирова С.Б.

Научные статьи · 2017

Аннотация

Обычно выращивание ITO проводится парогазовым осаждением в проходящем потоке газа-носителя [1]. Существует также модификация этого метода, так называемый спрей-пиролиз [2]. Толщина пленок составляет сотни нм. Скорость роста пленок в этих методах составляет десятки нм в час.

Доказательный фрагмент

«Обычно выращивание ITO проводится парогазовым осаждением в проходящем потоке газа-носителя [1].»

Образец извлечения

Демо-превью

Обычно выращивание ITO проводится парогазовым осаждением в проходящем потоке газа-носителя [1]. Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

DOI не указан
Цитирований
0
Тип
Журнал
Страна
Узбекистан
Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники