К содержанию
РецензированоRU2018

Влияние температуры отжига на микроструктуру и морфологию пленок TiN, синтезированных методом дуального магнетронного распыления

С. В. Зайцев · B.C. Ващилин · Д. С. Прохоренков · М. В. Лимаренко · Е.И. Евтушенко

Научные статьи · 2018

Аннотация

Пленки TiN, синтезированные на подложках лейкосапфира методом дуального магнетронного распыления, подвергли последующему отжигу в вакууме при 600, 700, 800 и 900°С в течение 2 min. Микроструктуру и морфологию пленок при различных температурах исследованы методами рентгеновской дифракции и сканирующей электронной микроскопии. Установлено, что отжиг влияет на изменения в микроструктуре, текстуре, размере зерна и шероховатости пленок TiN.

Доказательный фрагмент

«Пленки TiN, синтезированные на подложках лейкосапфира методом дуального магнетронного распыления, подвергли последующему отжигу в вакууме при 600, 700, 800 и 900°С в течение 2 min.»

Образец извлечения

Демо-превью

Пленки TiN, синтезированные на подложках лейкосапфира методом дуального магнетронного распыления, подвергли последующему отжигу в вакууме при 600, 700, 800 и 900°С в течение 2 min. Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

DOI не указан
Цитирований
0
Тип
Журнал
Страна
Узбекистан
Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники