РецензированоEN2023

Chemical metrology on latent resist images

Van Es.M.

Научные статьи · 2023

Аннотация

Patterning photoresist with extreme control over dose and placement is the first crucial step in semiconductor manufacturing.

Доказательный фрагмент

«Patterning photoresist with extreme control over dose and placement is the first crucial step in semiconductor manufacturing.»

Образец извлечения

Демо-превью

Patterning photoresist with extreme control over dose and placement is the first crucial step in semiconductor manufacturing. Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

DOI не указан

Цитирований: 0
Тип: Журнал
Страна: Узбекистан

Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники

[1]ПедагогикаUZРецензированоОткрытый доступ

MAXSUS KIYIM MATERIALLARINING TERMO-FIZIK PARAMETRLARINI ANIQLOVCHI OMILLAR

Научные статьиM.H.Sayidova, S.U.Pulatova2025

[2]ПедагогикаRUРецензированоОткрытый доступ

Допустимость доказательств в уголовном процессе: анализ зарубежного опыта

Общество и инновацииKhosiyat MAMATKULOVA2024

doi.org/10.47689/2181-1415-vol5-iss7/S-pp220-228

[3]ПедагогикаENРецензированоОткрытый доступ

IMPROVING THE METHODOLOGY OF TEACHING NATURAL SCIENCES BASED ON INTERACTIVE TECHNOLOGIES (WITH FOCUS ON 7TH GRADE PHYSICS IN UZBEKISTAN)

Академические исследования в современной наукеKhudaiberdiyeva Arafat Israilovna, Ph.D Professor hudayberdiyevaarofat@gmail.com +12026

doi.org/10.5281/zenodo.15704717

[4]ПедагогикаRUРецензированоОткрытый доступ

MAYDA IFLOSLIKLARDAN TOZALASH JARAYONIDA KOLOSNIKLI PANJARADA РАХТА BOʻLAKCHALARINING HARAKATINI TAHLILI

Научные статьиI.B.Yangiboyev, E.X.Berdanov +22025