К содержанию
РецензированоEN2023

Comparing metal assisted chemical etching of N and P-type silicon nanostructures

Ohlin.H.

Научные статьи · 2023

Аннотация

Metal assisted chemical etching is a promising method for fabricating high aspect ratio micro- and nanostructures in silicon.

Доказательный фрагмент

«Metal assisted chemical etching is a promising method for fabricating high aspect ratio micro- and nanostructures in silicon.»

Образец извлечения

Демо-превью

Metal assisted chemical etching is a promising method for fabricating high aspect ratio micro- and nanostructures in silicon. Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

DOI не указан
Цитирований
0
Тип
Журнал
Страна
Узбекистан
Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники