К содержанию
РецензированоRU2021

Влияние структурных дефектов на свойства ЭП ZnTe/GaAs

М. Шарибаев · А. Уразбоева · Ш. Каландарова

Научные статьи · 2021

Аннотация

Известно, что при выращивании эпитаксиальных слоев (ЭС) полупроводников АгВб на подложках GaAs вблизи границы раздела образуется переходной слой с высокой плотностью дислокаций и других протяженных дефектов

Доказательный фрагмент

«Известно, что при выращивании эпитаксиальных слоев (ЭС) полупроводников АгВб на подложках GaAs вблизи границы раздела образуется переходной слой с высокой плотностью дислокаций и других протяженных дефектов»

Образец извлечения

Демо-превью

Известно, что при выращивании эпитаксиальных слоев (ЭС) полупроводников АгВб на подложках GaAs вблизи границы раздела образуется переходной слой с высокой плотностью дислокаций и других протяженных дефектов Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.

DOI не указан
Цитирований
0
Тип
Журнал
Страна
Узбекистан
Спросить CiteX об этой работе

Смежные источники