Научные статьиM.H.Sayidova, S.U.Pulatova2025
Study of the Influence of Implanted Atoms on the Coefficients of the Sputtering of Silicon and Silicon with a thin Oxide Film
D.A.Tashmukhamedova · M.B. Yusupjanova · G.Allayorova · B.E.Umirzakov
Научные статьи · 2018
Аннотация
The results of theoretical and experimental studies of the influence of Ba-atom implantation and the presence of an oxide film on the Si-surface sputtering coefficient under ion bombardment are presented
Доказательный фрагмент
«The results of theoretical and experimental studies of the influence of Ba-atom implantation and the presence of an oxide film on the Si-surface sputtering coefficient under ion bombardment are presented»
Образец извлечения
Демо-превьюThe results of theoretical and experimental studies of the influence of Ba-atom implantation and the presence of an oxide film on the Si-surface sputtering coefficient under ion bombardment are presented Полный текст публикации CiteX не хранит — доступ к первоисточнику открывается по DOI согласно лицензии издателя и выбранному плану.
Смежные источники
Общество и инновацииKhosiyat MAMATKULOVA2024
Академические исследования в современной наукеKhudaiberdiyeva Arafat Israilovna, Ph.D Professor hudayberdiyevaarofat@gmail.com +12026
Магистерские диссертацииЮлдашев Ж.Х2014